Принцип на действие
Основният принцип на оборудването за вакуумно отлагане е да изпари или йонизира източника на материал във вакуумна среда и след това да позволи на генерираните атоми, молекули или йони да се отложат върху повърхността на целевия субстрат, за да образуват един или повече тънки филми.
Във високо-вакуумно запечатана камера магнитно поле ограничава електроните, за да йонизира газ аргон, получените аргонови йони бомбардират метална или оксидна мишена, причинявайки разпръскване на целевите атоми и отлагане върху повърхността на детайл, монтиран върху въртящата се стойка на камерата, като по този начин образува плътен, наномащабен тънък филм. Системата поддържа DC, MF, и захранващи устройства за RF разпръскване и побира както проводими, така и изолиращи мишени, много-целева конфигурация позволява съвместно-разпръскване за производството на еднослойни-слойни и многослойни композитни филми.
Характеристики на оборудването
Качеството на покритието е стабилно и равномерно, със силна адхезия
Планетарна въртяща се маса задвижва детайлите да се въртят в цялата камера, като осигурява постоянна дебелина на филма в цялата партида и предотвратява отлепване или лющене. Покритията са с висока чистота и системата може да произвежда филми от метал, сплав и диелектрични оксиди.
Поддържа ниско{0}}температурно покритие и предлага широка съвместимост на субстрата
Оборудван с нискотемпературен йонен-източник като стандарт, позволяващ покритие при стайна-температура с минимално повишаване на температурата на детайла, като по този начин предотвратява деформация, причинена от висока топлина.
Гъвкави възможности за процес, много{0}}целово съвместно-разпръскване
Камерата може да бъде конфигурирана с множество магнетронни цели, което позволява едновременно зареждане на различни целеви материали.
Напълно автоматично управление на затворен-контур чрез PLC гарантира лесна работа
Вакуумната евакуация, потокът на газ аргон, мощността на разпръскване, скоростта на въртене на плочата и параметрите на източника на йони се контролират автоматично. Системата включва сензорен HMI и позволява предварително задаване на множество рецепти за покритие.
Вакуумни камери, поддържа не-стандартно персонализиране
Лесна поддръжка, стабилна вакуумна система
Приложения:
Смесители за баня, душове, калъфи/каишки за часовници, рамки за очила, прибори за хранене, калъфи за мобилни телефони, калъфи за преносими компютри, подгответе различни цветни декоративни фолиа, фолиа против -пръстови отпечатъци и-устойчиви на корозия защитни фолиа.









Предимства на филма
Висока плътност на покритието и изключително ниска порьозност
Атомите, отложени чрез магнетронно разпрашване, притежават висока енергия, което позволява силна повърхностна подвижност и плътно опаковане
Почти без дупки-с минимална порьозност
Устойчивостта на корозия и окисление е значително по-добра от вакуумно{0}}изпарените покрития
Отлично представяне на тест със солен спрей; подходящ за анти{0}}корозионни и декоративни приложения върху обзавеждане за баня, хардуер и външни компоненти
Популярни тагове: Оборудване за вакуумно отлагане на магнетронно разпрашващо покритие, Китай Оборудване за вакуумно отлагане на магнетронно разпрашващо покритие производители, доставчици, фабрика
