Метод за покриване на функционални филми с вакуумно покритие

Има два метода за функционални филми за покриване, метод на CVD и PVD метод. Днес редакторът ще ви представи метода за покриване на функционални филми с вакуумно покритие, използвайки PVD покритие, надявайки се да ви помогне:
Методът на PVD използва физически форми като изпаряване и разпръскване, за да премахне източника на целеви материали и след това пренася енергия през вакуум или вакуумно пространство, за да депозира парни йони върху повърхността на субстрата, за да образува филм или част. Чрез процеса на реакция на газовата фаза, реакцията на газовата фаза причинява изпаряването и разпръскването на метални атоми, като по този начин се отлага необходимите съединения върху повърхността на инструмента. PVD покритието може да покрие титанов нитрид, титанов карбонитрид, алуминиев титанов нитрид и различни огнеупорни метални карбиди и нитриди.
Често използваните PVD методи понастоящем включват изпаряване на електронни лъчи с ниско налягане (LVEE), отлагане на катодна електронна дъга (CAD), транзисторно изпаряване на електронен лъч с високо напрежение (THVEE), небалансирано разпръскване на магнетрон (UMS), отлагане на йонни лъчи (IAD) и динамично йонно смесване (DIM). Основната разлика се крие в различните методи за изпаряване и методите за генериране на плазмени на отложените материали, което води до различни филмови формиращи скорости и качества на формиране на филми.
PVD технологията се използва главно за повърхностно обработка на интегрални карбидни инструменти и високоскоростни инструменти за инструменти и се използва широко при обработка на покритие на карбидни тренировки, фрезови резачки, рейдъри, кранове, инструменти със специална форма, инструменти за заваряване и др.
В сравнение с CVD, PVD има следните предимства:
Температурата на покритието (300 ~ 500 градуса) е по-ниска от температурата на темпериране на високоскоростната стомана на инструмента, така че няма да повреди твърдостта и точността на размерите на високоскоростните инструменти на инструмента и не се изисква обработка на топлината след покритието. Ефективната дебелина на покритието е само няколко микрона, така че първоначалната точност на инструмента може да бъде гарантирана, което е подходящо за инструменти с висока точност на покритие. Покритието има висока чистота, добра плътност и покритието е здраво свързано към субстрата. Производителността на покритието не се влияе от материала на субстрата. Покритието е равномерно и няма удебеляване или закръгляне на режещия ръб и дъга, така че сложните инструменти могат да бъдат равномерно покрити. Няма фаза на декарбуризация и покритието няма чупливо напукване, причинено от корозия на хлора и деформация на водородното премахване чрез метода на CVD. Острието с покритие има висока якост. Работният процес е чист, без замърсяване и без замърсяване.
Понастоящем PVD технологията на вакуумно покритие не само подобрява якостта на свързване между филма и основния материал на инструмента, но също така развива състава на покритието от едно покритие до различни композитни покрития като TIC, TICN, ZRN, CRN, MOS2, TIAIN, TIACN, TIN-AIN, CN и т.н. Това филмово покритие има не само висока якост на свързване, твърдост, близка до CBN, добра производителност на антиокситиране, но също така може ефективно да контролира формата и прецизността на ръба на прецизните инструменти, високоточната обработка и точността му на обработка не е по-ниска от това на голите инструменти.