Въпреки че има много видове източници на йони, тяхната цел е по същество една и съща: онлайн почистване, подобряване на разпределението на енергията върху покритата повърхност и модулиране на енергията на реактивния газ. Източниците на йони могат значително да подобрят силата на свързване между филма и субстрата, като същевременно подобряват твърдостта на филма и устойчивостта на износване и корозия. За устойчиви на износване-слоеве, които обикновено са по-дебели и не изискват висока равномерност на дебелината на филма, могат да се използват йонни източници с по-висок йонен ток и енергийни нива, като йонни източници на Хол или анолитни йонни източници.
Анодните йонни източници работят на принцип, подобен на йонните източници на Хол. Силно магнитно поле се прилага в тесен пръстеновиден (правоъгълен или кръгъл) прорез, който йонизира работния газ под въздействието на анода и го насочва към детайла. Анодните йонни източници могат да бъдат направени много големи и дълги, което ги прави особено подходящи за покриване на големи детайли, като например архитектурно стъкло. Те също така предлагат относително голям йонен ток. Техният йонен ток обаче е по-дифузен и разпределението на енергийните нива е твърде широко. Като цяло са подходящи за големи детайли, стъкло, абразивни повърхности и декоративни компоненти. Приложението им в модерни оптични покрития обаче не е широко разпространено.
Въпреки че има много видове източници на йони, тяхната цел е по същество една и съща: онлайн почистване, подобряване на разпределението на енергията върху покритата повърхност и модулиране на енергията на реактивния газ. Източниците на йони могат значително да подобрят силата на свързване между филма и субстрата, като същевременно подобряват твърдостта на филма и устойчивостта на износване и корозия. За устойчиви на износване-слоеве, които обикновено са по-дебели и не изискват висока равномерност на дебелината на филма, могат да се използват йонни източници с по-висок йонен ток и енергийни нива, като йонни източници на Хол или анолитни йонни източници.
Анодните йонни източници работят на принцип, подобен на йонните източници на Хол. Силно магнитно поле се прилага в тесен пръстеновиден (правоъгълен или кръгъл) прорез, който йонизира работния газ под въздействието на анода и го насочва към детайла. Анодните йонни източници могат да бъдат направени много големи и дълги, което ги прави особено подходящи за покриване на големи детайли, като например архитектурно стъкло. Те също така предлагат относително голям йонен ток. Техният йонен ток обаче е по-дифузен и разпределението на енергийните нива е твърде широко. Като цяло са подходящи за големи детайли, стъкло, абразивни повърхности и декоративни компоненти. Приложението им в модерни оптични покрития обаче не е широко разпространено.
Източникът на йони на Хол в aмашина за вакуумно покритиейонизира технологичния газ с помощта на силно аксиално магнитно поле. Силният дисбаланс на това аксиално магнитно поле разделя газовите йони и образува йонен лъч. Поради силата на аксиалното магнитно поле, йонният лъч от източника на йони на Хол се нуждае от допълнителни електрони, за да неутрализира йонния поток. Често срещан източник на неутрализация е волфрамова жичка (катод).
